C. Amaya, J. C. Caicedo, G. Bejarano, J. Muñoz-Saldaña, C. A. Cortés Escobedo, G. Zambrano, P. Prieto.

Con el objetivo de encontrar una aplicación industrial de monocapas de Circonia Estabilizada con Itria (YSZ) como recubrimientos tipo barrera térmica (TBC), películas delgadas de YSZ fueron depositadas sobre silicio (100) y substratos de acero inoxidable AISI 304 mediante un sistema multi-blanco magnetron sputtering con r.f (13.56 MHz), a partir de un blanco de 8mol.% Y2O3- ZrO2 de alta pureza (99.5%). Para mejorar la adhesión de la monocapa de YSZ al substrato de acero inoxidable, fue incorporado un gradiente de Al2O3. La estructura cristalina fue estudiada como función del voltaje bias del substrato por difracción de rayos-X (XRD). La influencia del bias sobre la rugosidad y tamaño de grano de las películas depositadas fue determinada por AFM. Los resultados obtenidos por XRD muestran la presencia de picos de difracción (111) y (200) correspondientes a la fase tetragonal de ZrO2. En este trabajo presentamos la influencia sistemática del voltaje bias sobre la estructura cristalina y la morfología de las películas de YSZ. Los resultados obtenidos por XRD, y AFM indican que cuando el voltaje bias se incrementa de -20 V a -60 V la orientación cristalográfica preferencial de la fase tetragonal de la YSZ cambia de (111) a (200), y el tamaño de grano de las películas depositadas disminuye de (560 ± 5) a (470 ± 5) nm.