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DEPENDENCIA DE RUGOSIDAD DE ESCALA CON LA TEMPERATURA DEL SUSTRATO EN PELICULAS DELGADAS DE MANGANITAS |
| C. – W. Sánchez, , J. – G. Ramírez, M. E. Gómez, W. Lopera, J. C. Caicedo. |
Se realizo un estudio estadístico cuantitativo en imágenes obtenidas con un Microscopio de Fuerza
Atómica (AFM) de películas delgadas de La2/3Ca1/3MnO3 (LCMO). Las películas fueron crecidas
mediante la técnica de Sputtering DC a altas presiones oxígeno, con un espesor de 78nm sobre
substrato monocristalino de (100)-SrTiO3 variando sistemáticamente la temperatura deposición
(Td). Las películas fueron caracterizadas por medidas resistencia en función de la temperatura para
determinar la temperatura de transición metal-aislante (TMI). Se realizo un análisis morfológico
a las muestras mediante la técnica de Microscopia de Fuerza Atómica. De las imágenes digitalizadas
se obtuvo el valor de exponente de rugosidad (α), longitud de correlación (ξ//) y Rugosidad de
saturación (σsat). A partir de la caracterización eléctrica y morfológica, se correlacionaron los
parámetros de rugosidad para cada temperatura de deposición. Se encontró que al aumentar Td, el
exponente de rugosidad (α) aumenta indicando un aumento del ordenamiento estructural debido a
los procesos difusivos. De la caracterización eléctrica se obtuvo que la temperatura de transición
metal-aislante (TMI) aumenta a medida que aumenta Td, lo cual corrobora el aumento de ordenamiento
estructural. |
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