Se crecieron películas delgadas de Dióxido de Vanadio VO2 utilizando un sistema Magnetrón Sputtering R.F. a 13.56 MHz, sobre substratos de Zafiro c(0001), SrTiO3 (100), Si (100) y vidrio. La temperatura del substrato durante el crecimiento se mantuvo constante a 480 °C. Las películas fueron fabricadas en atmósfera de Argón y Oxigeno a 9x10-3 mbar. Se observa el efecto del substrato sobre las propiedades eléctricas mediante medidas de resistencia eléctrica en función de la temperatura. Las películas presentan una transición de fase aislante-metal y una variación de la resistencia de 3 órdenes de magnitud a 68 °C.