Crecimos películas delgadas de la fase hexagonal del sistema YMnO3 sobre substratos de Pt/TiO2/SiO2/Si(100), por el
método de pulverización catódica sputtering rf (13.6 MHz) en atmósfera de oxigeno, a una temperatura de sustrato de 850ºC. Estudiamos morfológicamente la superficie por medio de microscopia de fuerza atómica (AFM) a partir del cual se
calculó el tamaño de grano de 4.1 ± 0.5 nm y una rugosidad de 181 ± 3 nm. También a través de difracción de rayos x
(XRD) se confirmó el crecimiento de la fase hexagonal YMnO3. Las capas crecidas mostraron comportamiento histerético
en las curvas de polarización en función de campo eléctrico aplicado, medidas en estructura capacitiva
Ag/YMnO3/Pt/TiO2/SiO2/Si(100). Se obtuvieron valores de polarización de saturación de 4,17 μC/cm2, campo coercitivo
de -2,69 KV/cm indicando la naturaleza ferroeléctrica del sistema YMnO3 en forma de película delgada.
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